М.: Радио и связь, 1985. — 264 с.: ил. — (Измерения в электронике).
Рассмотрены физические основы методов измерений электрофизических и структурных параметров полупроводниковых материалов и эпитаксиальных слоев, а также освещены вопросы их практической реализации. Анализируются причины возникновения погрешностей, даются рекомендации по ограничению и устранению источников ошибок измерений. Приводятся сведения о контрольно-измерительных средствах лабораторного и промышленного применения и их характеристиках.
Для инженерно-технических работников, занимающихся контролем качества и исследованием физических свойств полупроводниковых материалов и структур.
Несмотря на солидный возраст издания, книга не потеряла своей актуальности и в настоящее время в связи с практически полным отсутствием современной отечественной литературы аналогичного уровня. В особенности она может быть полезна преподавателям и студентам при изучении дисциплин, связанных с полупроводниковым материаловедением.